真空鍍膜機：主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜 ， 具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā) ， 磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種 。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種 。
【真空鍍膜機光學原理】原理：它由高壓部分和自動復位部分組成 。高壓部分包括三相高壓變壓器，三相橋式整流，RC阻容吸收網絡,高壓分壓器 。自動復位部分包括主開關電路，電流檢測電路，柵壓切換電路 ， 簾柵控制電路 。
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