【真空鍍膜時(shí)如何控制膜層的厚度】真空鍍膜時(shí)控制膜層厚度的方法有：
1、由時(shí)間和功率控制膜層的厚度：根據(jù)厚度等于時(shí)間乘以速率，改變功率以保證V接近常數(shù)，再通過時(shí)間來控制厚度；
2、石英晶體監(jiān)控：監(jiān)測(cè)晶振片的振動(dòng)頻率，根據(jù)厚度與頻率的變化關(guān)系，計(jì)算當(dāng)前厚度來控制；
3、光學(xué)監(jiān)控：直接測(cè)量膜系的光學(xué)特性；
4、目測(cè)：肉眼觀測(cè)反射顏色來控制膜層厚度，誤差太大 。
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