但既然我國已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了28納米光刻機(jī)技術(shù)的突破，未來28納米光刻機(jī)量產(chǎn)遲早會到來 。
一旦我國掌握了成熟的28納米光刻機(jī)之后，再配合芯片制造工藝的改進(jìn)，再經(jīng)過多次曝光之后是可以用于生產(chǎn)14納米光刻機(jī)的，甚至有可能用于生產(chǎn)7nm納米芯片 。
要知道臺積電第1代7納米芯片其實(shí)也是用DUV光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)的，當(dāng)時他們采用的是ASML的ARFi型號DUV光刻機(jī)，這個光刻機(jī)的最大分辨率是38納米 。
而據(jù)說上海微電子研發(fā)出來的新一代光刻機(jī)最大分辨率也是達(dá)到38納米，如此一來，確實(shí)有很大的希望可以用于生產(chǎn)14納米芯片和7納米芯片 。
當(dāng)然除了依賴光刻機(jī)的技術(shù)進(jìn)步之外，目前市場上還有一種提升芯片性能的路線，那就是芯片堆疊，也就是把兩個芯片疊在一起，從而達(dá)到提升芯片性能的目的，這種路線已經(jīng)被證實(shí)是可行的 。
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