目前我國已經(jīng)投入量產(chǎn)的最先進光刻機是90納米光刻機，雖然28納米光刻機已經(jīng)實現(xiàn)了技術(shù)上的突破，但目前還處于測試階段，因為良品率相對比較低，并沒有投入量產(chǎn)當(dāng)中 。對此有些網(wǎng)友可能就產(chǎn)生一些大膽的想法，我們能不能使用純國產(chǎn)90納米光刻機來制造14納米的芯片呢？首先可以肯定地告訴大家答案，不可能 ?？赡苡行┡笥褧f，用90納米光刻機經(jīng)過工藝上的改進以及多次曝光之后生產(chǎn)
目前我國已經(jīng)投入量產(chǎn)的最先進光刻機是90納米光刻機，雖然28納米光刻機已經(jīng)實現(xiàn)了技術(shù)上的突破，但目前還處于測試階段，因為良品率相對比較低，并沒有投入量產(chǎn)當(dāng)中 。
對此有些網(wǎng)友可能就產(chǎn)生一些大膽的想法，我們能不能使用純國產(chǎn)90納米光刻機來制造14納米的芯片呢？
首先可以肯定地告訴大家答案，不可能 。
可能有些朋友會說，用90納米光刻機經(jīng)過工藝上的改進以及多次曝光之后生產(chǎn)14納米的芯片沒有問題，但這只是理論上的理想值，現(xiàn)實當(dāng)中并不可行 。
這個先給大家普及一個最基本的常識，那就是光刻機的波長和精度是兩碼事 。
提到光刻機，我們正常所說的工藝一般指的是它的精度也就是分辨率，比如國產(chǎn)90納米光刻機也就是90納米分辨率 。
但實際上90納米精度的光刻機它的波長并不是90納米，而是比90納米大很多 。
目前市場上的光刻機分為兩大類，一類是EUV光刻機，還有一種是DUV光刻機，其中EUV光刻機只有荷蘭的ASML掌握了技術(shù)，其他國家并沒有掌握 。
目前國產(chǎn)光刻機屬于DUV光刻機，DUV光刻機光源為準(zhǔn)分子激光，根據(jù)技術(shù)不同，DUV光刻機波長可以分為365納米、248納米、193納米、等效134納米 。
目前國產(chǎn)90nmDUV光刻機波長應(yīng)該是在193納米到248納米之間 。
那為什么我們又說國產(chǎn)光刻機最先進達到90納米呢？其實這里面除了波長之外，還需要通過物鏡以及光源來達到提升精度的目的 。
但是目前國產(chǎn)物鏡以及光源同樣存在很大的挑戰(zhàn)，而全球最頂尖的物鏡以及光源生產(chǎn)商，比如德國蔡司以及美國的crymer，他們是不可能將最先進的物鏡以及光源出口給我們的，光靠國產(chǎn)供應(yīng)商提供短期內(nèi)很難實現(xiàn)光刻機精度的提升 。
所以想要用國產(chǎn)光刻機來制造14納米芯片幾乎不可能，要是有可能我們現(xiàn)在就不至于這么頭疼了 。
可能有些朋友會說，用90納米光刻機經(jīng)過多次曝光之后同樣可以生產(chǎn)出14納米芯片，但是在這里面很多人可能忽略了幾個問題 。
第1個是成本問題 。
【90nm光刻機能生產(chǎn)什么的芯片 可以曝光多少nm芯片】假如利用90納米光刻機經(jīng)過多次曝光生產(chǎn)14納米芯片，其成本將會迅速上升，有可能成本是普通14nm納米芯片成本的好幾倍，最終生產(chǎn)出來的芯片沒有任何市場優(yōu)勢了，企業(yè)也不可能做這種虧本生意的 。
第2個是良品率的問題 。
就算我國經(jīng)過多種努力之后，真的能夠用90納米光刻機生產(chǎn)14納米芯片了，但是良品率絕對不會很高，良品率能夠達到10%已經(jīng)非常不錯了，如此低的良品率不僅大大提升企業(yè)的成本，關(guān)鍵是有沒有廠家愿意采購這種芯片是一個大問題 。
所以綜合各種因素之后，想利用90納米國產(chǎn)光刻機來制造實施納米芯片基本不可能 。
目前唯一有希望的是，等國產(chǎn)28nm光刻機量產(chǎn)之后，確實有可能用于生產(chǎn)14納米甚至7納米的芯片 。
目前國產(chǎn)28納米光刻機已經(jīng)實現(xiàn)技術(shù)突破，目前還在測試階段，按照上海微電子原來的計劃，據(jù)說2022年底之前會量產(chǎn)，但是按照目前的進度來看，估計短期內(nèi)很難實現(xiàn)量產(chǎn)，有可能需要等到2023年甚至2024年 。
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