【光刻機(jī)原理 進(jìn)來(lái)看看】1、光刻機(jī)制作芯片的過(guò)程 ， 基本和“沖印照片”一樣 。假設(shè)拍的是風(fēng)景 ， 膠片上會(huì)有曝光痕跡 ， 先要在暗室里顯影 ， 讓風(fēng)景在膠片上顯示出來(lái) 。然后在紅光下通過(guò)放大機(jī) ， 把膠片上的風(fēng)景投射到相紙上 ， 讓相紙曝光 。再通過(guò)相紙的顯影、定影、烘干得到最終的照片 。除了風(fēng)景之外 ， “照片沖印”需要有膠片 ， 有光源、放大機(jī)、相紙 。
2、對(duì)光刻機(jī)來(lái)說(shuō) ， 所謂“風(fēng)景”就是設(shè)計(jì)好的集成電路圖（IC） ， “膠片”就是一塊石英板（光罩） ， 用來(lái)記錄集成電路圖 ， “相紙”就是硅晶圓 ， “放大機(jī)”就相當(dāng)于光刻機(jī) 。
3、所不同的是 ， 洗照片是放大 ， 把小膠片放大到相紙上 ， 光刻機(jī)是縮小 ， 把電路圖縮小到晶圓上 。
4、在光刻機(jī)領(lǐng)域 ， 有三家國(guó)際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾） ， 日本Nikon（尼康） ， 日本Canon（佳能） 。但高端光刻機(jī)市場(chǎng) ， 荷蘭ASML是無(wú)可爭(zhēng)議的世界霸主 ， 把第二名都甩得很遠(yuǎn) ， 因?yàn)榧夹g(shù)難度太高、需要的投資太大 ， 尼康、佳能已經(jīng)放棄EUV光刻機(jī)的研發(fā) 。
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