GCA的慘敗，促使美國調(diào)整戰(zhàn)略 。
由于蘇聯(lián)解體，世界格局轉(zhuǎn)變?yōu)橐怀鄰姡绹闹匦牟辉偈怯仓^皮死磕，而是扶植弱小的傀儡 ， 自己在幕后對其進行操縱 。光刻機方面的傀儡，正是荷蘭的ASML公司 。
美國的傀儡方式簡單粗暴，雖然他們自己不再做頂尖的光刻機，把市場讓給了ASML 。
但是在ASML的EUV光刻機上，很多都是美國制造的零部件，比如美國Cymer公司的大功率光源 。
這種光源，能把193納米的短波紫外線，通過多次精密反射 ， 得到13.5納米的極紫外線，也就是所謂的“EUV” 。
ASML雖然具有領(lǐng)先全球的尖端光刻機技術(shù)，卻無法制造這類零部件，只能通過從美國、德國等國家的供應(yīng)商處購買 。
如果美國停止供應(yīng)光源，那么ASML很可能會面臨停產(chǎn) 。
因此今年3月，ASML才會公開表態(tài) ， 解釋為何不賣給我國EUV光刻機：“這不是我們的選擇，而是政府們的選擇 ?！?br />
他們口中的政府，明面上看是荷蘭，實際上是對中國虎視眈眈的美國 。
就目前的局勢而言，倘若ASML跟我國簽訂合同，準(zhǔn)備賣給我們光刻機，交易多半要以“離奇失敗”告終 。
到時 ， 美國多半會迅速扶持一家新的光刻機公司，用來替代ASML 。畢竟美國掌控著諸多核心部件，相當(dāng)于掌握了誰能制造EUV光刻機的決定權(quán) 。
是以 ， 中國就算有能力造出EUV光刻機，也要想辦法解決部件等問題 。無論是自主研發(fā)，還是尋找靠譜的供應(yīng)商 。而這，才是中國能否制造出頂尖光刻機的重要前提 。
那么問題來了，我國真的能追上荷蘭的進度嗎？
中國還有機會跟上步伐嗎？去年1月 ， 荷蘭高科技學(xué)院的董事總經(jīng)理、《光刻巨人：ASML的崛起之路》作者瑞尼·雷吉梅克，曾在一場采訪時說：
【高端光刻機哪個國家能造 光刻機哪個國家能造】“如果沒有限制，中國（5納米光刻機）肯定能在5~10年內(nèi)追上來 ?！?br />目前，我國的上海微電子裝備有限公司，已經(jīng)放出了28納米DUV光刻機的部分信息，預(yù)計年底之前交付 。
雖然這還不是EUV光刻機，但是需要知道一點，我國在研究DUV光刻機的同時，也在攻克EUV方面的種種難關(guān) 。
去年央視播放了一段鼓舞人心的新聞：中科院研制出了“高能同步輻射光源”，是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一，使我國的EUV光源技術(shù)向前邁出一大步 。
中科科美也緊隨其后宣布，他們研制的0.1nm鏡頭鍍膜裝置 ， 也已經(jīng)正式投入使用 。如此，國產(chǎn)EUV光刻機的鏡頭，也不再是大難題 。
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