但是2018年底中科院傳來了好消息，中科院光電所研發(fā)成功了世界首臺(tái)紫外超分辨率光刻機(jī)，該光刻機(jī)采用可通過多重曝光生產(chǎn)22nm芯片 。特別值得一提的是，這臺(tái)光刻機(jī)繞過了ASML等對國外光刻機(jī)高分辨率裝備專利的技術(shù)壁壘，從光刻機(jī)原理上走出了一條具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的研發(fā)路線，為我國先進(jìn)光刻機(jī)的發(fā)展打下了良好的技術(shù)基礎(chǔ) 。
雖然這臺(tái)設(shè)備技術(shù)上前景很牛，通過多重曝光技術(shù)甚至可以生產(chǎn)10nm以下的芯片，要想真正用于芯片制造必須要流程再造，但是有志者事竟成 ， 畢竟商業(yè)化之路是很漫長的 。盡管如此，這臺(tái)光刻機(jī)的研發(fā)成功對我國光刻機(jī)進(jìn)步的意義是不言而喻的 ， 可以說是開辟了有別于國外光刻機(jī)的技術(shù)路徑，實(shí)現(xiàn)了中國真正自主創(chuàng)新 。
總之，中國芯片產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，光刻機(jī)已成為芯片產(chǎn)業(yè)的一只攔路虎，如果我們只是一味地去模仿ASML的技術(shù)路徑，肯定是不行的 。只有下定決心，另辟蹊徑，走出一條有別于ASML的技術(shù)途徑 ， 才有可能生產(chǎn)出真正有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的國產(chǎn)光刻機(jī)，無疑，中科院光電所給我們做出了榜樣，給中國的芯片之路指明了方向 。
【euv光刻機(jī)中國能造嗎 光刻機(jī)中國能造嗎】此文由“科技擺乾坤”發(fā)布，2020年02月06日
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