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近日 ， 全球光刻機(jī)巨頭佳能正式宣布 ， 自己已向美國(guó)德克薩斯州的半導(dǎo)體聯(lián)盟——德克薩斯電子研究所 （TIE） ， 出貨了一臺(tái)最新的納米壓印光刻 （NIL） 系統(tǒng)FPA-1200NZ2C ， 引發(fā)全球關(guān)注 。
為何這臺(tái)FPA-1200NZ2C會(huì)引發(fā)大家的關(guān)注呢？原因在于它是佳能去年發(fā)布的 ， 一臺(tái)可用于5nm芯片工藝的設(shè)備 ， 使用它 ， 可以不用EUV光刻機(jī) ， 即可制造5nm芯片 。
要知道 ， 在它誕生之前 ， 所有5nm的芯片 ， 都必然使用EUV光刻機(jī) ， 但全球又只有ASML一家能生產(chǎn)EUV光刻機(jī) 。
而佳能的NIL設(shè)備誕生后 ， 給大家展示了另外一條制造5nm芯片的路 ， 那就是納米壓印 ， 這完全是換道超車了 ， 自然引發(fā)大家關(guān)注 。
事實(shí)上 ， 對(duì)比EUV光刻機(jī) ， 這種納米壓印機(jī) ， 也是有很多優(yōu)勢(shì)的 ， 比如其售價(jià)只有EUV光刻機(jī)的十分之一左右 ， 全套納米壓印生產(chǎn)線 ， 相比于EUV光刻生產(chǎn)線 ， 成本低了40-50% 。
當(dāng)然 ， 納米壓印也有缺點(diǎn) ， 那就是一套NIL生產(chǎn)線的產(chǎn)量 ， 和EUV相比 ， 低很多 ， 在超大規(guī)模的芯片制造中 ， 還是有很大的提升空間 ， 不如EUV效率高 。
另外就是 ， 使用納米壓印技術(shù)時(shí) ， 全套生產(chǎn)設(shè)備 ， 都不能與EUV光刻設(shè)備配套 ， 生產(chǎn)線的設(shè)備 ， 全部要重新更換 ， 這對(duì)于一些擁有EUV生產(chǎn)線的芯片廠而言 ， 很難接受 ， 畢竟拋棄掉一種 ， 全部替代 ， 不太可能 。
但很明顯 ， 這樣的NIL ， 對(duì)中國(guó)芯片廠而言 ， 就有巨大的誘惑了 。
一方面是成本低 ， 二是EUV之外的第二條路 ， 畢竟ASML的EUV光刻機(jī)我們買不到啊 。
另外缺點(diǎn)方面 ， 也不是大缺點(diǎn) ， 我們不需要超大的5nm芯片生產(chǎn)產(chǎn)能 ， 同時(shí)我們也沒(méi)有EUV光刻生產(chǎn)線 ， 反正都是從0開(kāi)始建 ， 直接建立NIL生產(chǎn)線 ， 成本又低一些 ， 何樂(lè)而不為呢？
其實(shí) ， 之前佳能就有想法 ， 這樣的設(shè)備生產(chǎn)出來(lái)后 ， 可以賣給中國(guó)的 。
但后來(lái)美國(guó)針對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) ， 實(shí)施了各種禁令 ， 日本、荷蘭也跟進(jìn) ， 導(dǎo)致佳能的這種設(shè)備 ， 就無(wú)法出貨給中國(guó)了 ， 這真的是遺憾 。
【佳能的遺憾：5nm NIL設(shè)備，最適合賣給中國(guó)，可惜不能賣】因?yàn)槌酥袊?guó)之外 ， 佳能找不到更合適的 ， 大量需要NIL設(shè)備的國(guó)家或地區(qū)了 ， 畢竟另外能夠制造5nm芯片的intel、臺(tái)積電、三星都有大量的EUV生產(chǎn)線 ， 切換成NIL生產(chǎn)線 ， 幾乎不可能 。
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