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中國(guó)唯一一臺(tái)7nm光刻機(jī),7nm光刻機(jī)被抵押( 二 )

云知道抵押


中國(guó)要造出5nm的光刻機(jī)需要多長(zhǎng)時(shí)間呢？

中國(guó)唯一一臺(tái)7nm光刻機(jī),7nm光刻機(jī)被抵押


光刻機(jī)，就是用光線在硅晶圓上刻畫(huà)出電路圖來(lái) 。所以最核心的分為兩方面：一是技術(shù)，二是工藝 。落實(shí)到具體的對(duì)象上，就是鏡頭和激光光源，以此來(lái)分析中國(guó)在這兩項(xiàng)技術(shù)上的所需的進(jìn)程，就能大致了解中國(guó)造出5nm的光刻機(jī)需要多長(zhǎng)時(shí)間了 。為何非要5nm這個(gè)參數(shù)級(jí)的光刻機(jī)中國(guó)的中芯國(guó)際最近向荷蘭的ASML成功訂購(gòu)了一臺(tái)光刻機(jī)，但生產(chǎn)最高極限是7nm的芯片，要想突破7nm的這個(gè)技術(shù)瓶頸，就必須使用EUV（極紫外光源）技術(shù)，這所購(gòu)的這臺(tái)光刻機(jī)不含EUV光源的技術(shù) 。
不是可以買(mǎi)嗎？但買(mǎi)到 。因?yàn)椋篍UV（極紫外光源）研究是多個(gè)國(guó)家參與的（包括美國(guó)） 。根據(jù)《瓦森納協(xié)定》美國(guó)就可以決定不賣(mài)給你 。上面說(shuō)的中芯國(guó)際訂購(gòu)的7nm芯片的光刻機(jī)，如果美國(guó)要使壞，要想成功訂購(gòu)也是不容易的 。20年前明確的目標(biāo)，是5nm的EUV光刻機(jī)研發(fā)的最佳時(shí)間早在1999年，EUV光刻機(jī)的地位就已經(jīng)很明確了，誰(shuí)有了EUV光刻機(jī)的技術(shù)，誰(shuí)就有了芯片領(lǐng)域的未來(lái) 。
1997年的時(shí)候，美國(guó)的多家企業(yè)就發(fā)現(xiàn)了EUV技術(shù)商業(yè)價(jià)值，就聯(lián)合進(jìn)行了開(kāi)發(fā)，也已明確了目標(biāo)，這是全世界都不是什么秘密，中國(guó)沒(méi)有進(jìn)行相應(yīng)的產(chǎn)業(yè)調(diào)整和重視 。研發(fā)5nm的EUV光刻機(jī)所需的資源5nm的光刻機(jī)，必然要用到EUV技術(shù)，美國(guó)研發(fā)的最早，我們看一下世界范圍內(nèi)關(guān)于EUV技術(shù)研究和投入的情況：1、美國(guó)美國(guó)對(duì)EUV技術(shù)的研發(fā)時(shí)間最長(zhǎng)，總共投入了50多個(gè)高校和科技企業(yè)進(jìn)入到這個(gè)領(lǐng)域，最終在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域，美國(guó)的占領(lǐng)先地位，收益也是最大的 。
2、歐洲對(duì)于EUV光刻機(jī)看的最重，聯(lián)合了35個(gè)國(guó)家，共110多個(gè)高校和企業(yè)加入到研究的行列中 。3、日本和韓國(guó)投入相對(duì)較小，但也有一定的成果就是說(shuō)，EUV（紫外光源）的研究是多個(gè)國(guó)家參與的，包括了美國(guó)、歐洲多國(guó)還有日本、韓國(guó)，美國(guó)出力最多，所以不買(mǎi)給中國(guó) 。結(jié)論：幾十個(gè)國(guó)家，上百所研究單位，花費(fèi)了20多年的時(shí)間，才研發(fā)出今天的EUV光刻機(jī)，實(shí)現(xiàn)了5nm級(jí)別制程的芯片 。
到底研究了啥要生產(chǎn)EUV光刻機(jī)，最關(guān)鍵和核心的研究課題有兩個(gè)：鏡頭和激光光源 。1、鏡頭現(xiàn)在世界上高端光刻機(jī)使用的是德國(guó)的卡爾蔡司光學(xué)鏡頭，世界上沒(méi)有哪家公司能夠復(fù)制卡爾蔡司的技術(shù) 。從長(zhǎng)遠(yuǎn)觀點(diǎn)看，中國(guó)也應(yīng)發(fā)展自己的高端鏡頭產(chǎn)業(yè)，但中國(guó)與德國(guó)的關(guān)系還算可以， 不妨先拿來(lái)用，一邊用一邊研究，這樣可以減少研發(fā)時(shí)間 。
2、激光光源這個(gè)核心技術(shù)是必須研究的，因?yàn)槊绹?guó)把持著《瓦森納協(xié)定》，中國(guó)處在被禁運(yùn)國(guó)家之列 。就是說(shuō)只要美國(guó)干預(yù)，中國(guó)將無(wú)法獲得EUV光刻機(jī) 。因?yàn)檫@個(gè)EUV技術(shù)，美國(guó)和歐洲幾十個(gè)國(guó)家（包括日本和韓國(guó)）研究了20多年，中國(guó)需要用多久呢？心里應(yīng)該有一個(gè)底了吧 。綜上所述，中國(guó)要研發(fā)EUV技術(shù)需要投入相當(dāng)大的資源，當(dāng)然中國(guó)是一個(gè)工業(yè)部門(mén)齊全的大國(guó)，集中力量辦大事是中國(guó)制度的優(yōu)點(diǎn)，但是，研發(fā)需要遵重科學(xué)規(guī)律，要有一個(gè)過(guò)程，像歐美日韓都需要近20年時(shí)間，那們打個(gè)折扣，總需要10年吧 。
為什么全世界只有荷蘭能夠制造頂級(jí)的光刻機(jī)？
首先，ASML在光刻機(jī)領(lǐng)域是無(wú)可爭(zhēng)議的世界霸主 ?！饪虣C(jī)是芯片生產(chǎn)中必不可少的設(shè)備↑ASML是一家荷蘭公司，又叫阿斯麥，是一家專(zhuān)門(mén)生產(chǎn)光刻機(jī)的企業(yè) 。所謂的光刻機(jī)，是生產(chǎn)芯片的最為關(guān)鍵的設(shè)備之一 。具體光刻機(jī)是用來(lái)干什么的，可以參考我之前寫(xiě)的一篇答案：《生產(chǎn)芯片用的蝕刻機(jī)和光刻機(jī)有什么區(qū)別？》地址是：https://www.wukong.com/question/6545436431743975687/↑神一樣的ASML的光刻機(jī)↑這家公司可以說(shuō)是世界上最頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商，而且即便是世界第二也已經(jīng)被遠(yuǎn)遠(yuǎn)甩在了后面，現(xiàn)在其最先進(jìn)的EUV（極紫外光）光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片了，單臺(tái)光刻機(jī)的售價(jià)已經(jīng)超過(guò)了一億美元，而且還不是現(xiàn)貨 。

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