【光刻膠和光刻機(jī)有什么區(qū)別】
區(qū)別在于光刻是通過(guò)光刻膠把電路印制在基板上，然后在進(jìn)行下一步，而光刻機(jī)就是要行進(jìn)光刻這一步驟的機(jī)器 。主要原理是光刻機(jī)利用特殊光線將集成電路映射到硅片表面，并要避免在硅片表面留下痕跡，需要在硅片表面涂上一層特殊的物質(zhì)光刻膠 。因此，光刻膠是光刻機(jī)研發(fā)的重要材料，而且它不止應(yīng)用于芯片，在高端面板、模擬半導(dǎo)體、發(fā)光二極管、光電子器件以及光子器件上也廣泛應(yīng)用 。
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