我國造出新式光刻機 讓寬刀雕出細活!


我國造出新式光刻機 讓寬刀雕出細活!



11月29日 , 中科院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收 , 這是世界上首臺用紫外光源實現了22納米分辨率的光刻機 。
光刻機相當于一臺投影儀 , 將精細的線條圖案投射于感光平板 , 光就是一把雕刻刀 。 但線條精細程度有極限——不能低于光波長的一半 。 “光太胖 , 門縫太窄 , 光就過不去了 。 ”參與研究的科學家楊勇告訴科技日報采訪人員 。
使用深紫外光源的光刻機是主流 , 其成像分辨率極限為34納米 , 分辨率進一步提高要用多重曝光等技術 , 很昂貴 。
【我國造出新式光刻機 讓寬刀雕出細活!】2003年光電所開始研究一種新辦法:金屬和非金屬薄膜貼合 , 交界面會有無序的電子;光線照射金屬膜 , 使這些電子有序振動 , 產生波長短得多的電磁波 , 可用于光刻 。
如此一來 , “寬刀”就變成了“窄刀” 。 光電所研制的光刻機 , 在365納米波長光源下 , 單次曝光最高線寬分辨率達到22納米 , 相當于1/17波長 。
光刻機為人所熟悉 , 因為它是集成電路制造業的核心角色 。 目前荷蘭ASML公司壟斷的尖端集成電路光刻機 , 加工極限為7納米 。 光電所的光刻機分辨率為22納米 , 但定位有所不同 。
光電所的光刻機擅長加工一系列納米功能器件 , 包括大口徑薄膜鏡、超導納米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、生化傳感芯片和超表面成像器件 , 這對中國的遙感成像、生化痕量測量、特種表面材料等領域有重要意義 。
“ASML的EUV光刻機使用的13.5納米的極紫外光源 , 價格高達3000萬元 , 還要在真空下使用 。 ”項目副總師胡松說 , “而我們使用的365納米紫外光的汞燈 , 只要幾萬元一只 。 我們整機價格在百萬元級到千萬元級 , 加工能力介于深紫外級和極紫外級之間 , 讓很多用戶大喜過望 。 ”
光電所走高分辨、大面積的技術路線 , 掌握了超分辨光刻鏡頭、精密間隙檢測、納米級定位精度工件臺、高深寬比刻蝕和多重圖形配套光刻工藝等核心專利 , 技術完全自主可控 , 在超分辨成像光刻領域國際領先 。

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