中國光刻機的新突破（中科院傳光刻機突破）
芯片領(lǐng)域的發(fā)展一直是全球關(guān)注的重點，光刻機作為芯片制造的基礎(chǔ)，一直是我國難以跨越的鴻溝，尤其是在高端光刻機方面，不過功夫不負有心人，我國在光刻機領(lǐng)域終有所進展 。
EUV光源、雙工件臺接連突破【中科院傳光刻機突破 中國光刻機的新突破】上海微電子作為我國光刻機行業(yè)的領(lǐng)軍企業(yè)，近些年的表現(xiàn)也是相當不錯的，到目前為止，上海微電子已經(jīng)掌握了90nm光刻機的制造能力，并且在28nm方面也有所成長，預(yù)計到2021年年末的時候會與大家見面
而光刻機最核心的三項技術(shù)分別是EUV光源、雙工件臺和光學(xué)鏡頭，這三項的難度可以說是不分上下，其技術(shù)方面我國經(jīng)常受到西方國家的封鎖 。
最近中科院傳來好消息，預(yù)示著我國在光刻機領(lǐng)域又有了新的突破，在生產(chǎn)光刻機技術(shù)方面，清華大學(xué)和聯(lián)邦技術(shù)學(xué)院達成合作協(xié)議，共同提出了一種新型粒子加速器，并對其進行了驗證，其結(jié)果顯示通過ssmb的工作原理，可以為光刻機覆蓋所需的EUV光源技術(shù) 。
不僅如此，如今在雙工件臺技術(shù)方面也有所成就，華卓精科作為我國在該領(lǐng)域的杰出代表企業(yè)，目前與清華大學(xué)的專業(yè)團隊進行合作，共同研制出的雙工件臺，其技術(shù)水準完全可以與阿斯麥相提并論，實力不相上下，據(jù)了解，上海微電子制造的28nm光刻機，其中利用的就是華卓精科的雙工件臺 。
該雙工件臺的精度可以達到1.7nm，主要被應(yīng)用在65nm以下的芯片制程，它的出現(xiàn)預(yù)示著我國在該領(lǐng)域技術(shù)的進步、打破西方國家的封鎖，實現(xiàn)自主化生產(chǎn) 。
我國光學(xué)鏡頭有待成長
如果想要在光刻機方面實現(xiàn)全面發(fā)展，對阿斯麥的霸主地位有所挑戰(zhàn)，目前還有光學(xué)鏡頭技術(shù)有待進步，我國在該領(lǐng)域有著突出表現(xiàn)的就是舜宇光學(xué)公司 。
據(jù)了解在去年世界鏡頭市場中，舜宇光學(xué)在其中的占比就達到了26%，在安卓手機鏡頭市場中，其占比更是達到了33%，甚至以5617萬個銷量，穩(wěn)居世界第一的位置 。
為了能夠促進光學(xué)鏡頭的發(fā)展，舜宇光學(xué)不惜投入大量的資金來攻克技術(shù)上的難題，從2008年投入了0.56億，去年的投資數(shù)額竟達到了25億元，如今在該領(lǐng)域已經(jīng)占有一席之地，并且獲得了2000多項授權(quán)專利 。
但讓人比較遺憾的是目前無法生產(chǎn)出光刻機鏡頭，這主要是因為光刻機鏡頭的難度實在較大，按照舜宇光學(xué)目前的發(fā)展水平，還能難達到該技術(shù)水平，光刻機鏡頭要求其鏡面的光潔度不能超過50皮米，也就相當于要求四川地區(qū)的高度不能超過5厘米 。
在光學(xué)鏡頭生產(chǎn)制造方面，德國卡爾蔡司處于絕對王者之位，是目前世界上唯一一個為阿斯麥提供光學(xué)鏡頭的企業(yè)，其發(fā)展歷史有170多年 。
即使是經(jīng)驗豐富實力超強的蔡司，也不能完全保證其生產(chǎn)的產(chǎn)品可以達到標準，目前在公司內(nèi)可以達到該水準的技術(shù)師只有20人 。
結(jié)語雖然目前我國還未能實現(xiàn)光刻機鏡頭的生產(chǎn)，但是相信憑借舜宇光學(xué)的實力，以及按照它目前的發(fā)展速度，今后我國一定會在該領(lǐng)域有所突破，打破外企的技術(shù)壁壘 。
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