1、首先 ， 光刻機(jī)的透鏡 ， 光源技術(shù)難度大 ， 研發(fā)要求歷史和時(shí)間比較長 。其實(shí)光刻機(jī)的發(fā)展歷史非常悠久 ， 從90年代開始 ， 發(fā)達(dá)國家就已經(jīng)開始研究光刻機(jī)的相關(guān)技術(shù) 。其中美國著名廠商asml負(fù)責(zé)研發(fā) ， 在硬件方面他們采用德國蔡司的透鏡 。并且其他的相關(guān)硬件都來自于其他高科技國家 。所以說光刻機(jī)技術(shù)不僅僅是一個(gè)國家就能夠研發(fā)出來的 ， 它還需要全球不同的國家為其提供生產(chǎn)力和科技的支持 。舉一個(gè)簡單的例子說明 ， 美國生產(chǎn)的7納米芯片 ， 是利用光刻技術(shù)將數(shù)據(jù)集成到芯片上 。并且在制作過程當(dāng)中要非常嚴(yán)格地掌控光的大小 。這遠(yuǎn)比制作一個(gè)普通的相機(jī)要難 ， 因?yàn)橄鄼C(jī)只需要控制光圈 ， 而光刻機(jī)不僅僅是要控制光的大小 ， 還要能夠利用光 。
2、其次 ， 光刻機(jī)的研發(fā)需要大量的資金支持 ， 很多企業(yè)難以承擔(dān)高昂的研發(fā)費(fèi)用 。美國等發(fā)達(dá)國家研究光刻機(jī) ， 幾乎每年都有超過90個(gè)億的資金作為研發(fā)費(fèi)用 。到目前為止這些掌握光刻機(jī)技術(shù)的國家大約都花費(fèi)了約4000億元 。并且目前光刻機(jī)市場(chǎng)的老大asml幾乎可以說是整個(gè)光刻機(jī)技術(shù)的壟斷者 。他們每年投入的研發(fā)費(fèi)用 ， 幾乎是某些世界500強(qiáng)企業(yè)的三個(gè)季度的收入 。
【光刻機(jī)為什么那么難制造】3、最后 ， 我國的光刻機(jī)技術(shù)剛起步 ， 仍然面臨著許多難題需要攻克 。從目前我國在相關(guān)行業(yè)發(fā)展歷史分析 ， 只有上海微電子裝備和合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司在研究光刻機(jī)方面取得了一定的進(jìn)步 。
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