1、光刻機可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造 。按照光源和發(fā)展前后，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影光刻機的工藝 。光刻機可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻 。
【5nm光刻機的原理】2、原理：接近或接觸式光刻通過無限靠近，復(fù)制掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點，通過運動工件臺或鏡頭掃描實現(xiàn)任意圖形加工 。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優(yōu)點，是集成電路主流光刻技術(shù) 。
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