發(fā)明專利和實(shí)用新型專利的區(qū)別如下：1、前者保護(hù)的是：對產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案；后者保護(hù)的是：對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適用于實(shí)用的新的技術(shù)方案 。2、前者的保護(hù)期限為20年，后者的保護(hù)期限為10年 。3、后者的創(chuàng)造性水平要求比前者要低 。4、后者只進(jìn)行形式審查，前者還需要實(shí)質(zhì)審查，授權(quán)時(shí)間也更長 。
發(fā)明專利和實(shí)用新型專利的區(qū)別
按照《中華人民共和國專利法》規(guī)定的內(nèi)容來看，發(fā)明專利和實(shí)用新型專利的區(qū)別主要有四點(diǎn)：
1、保護(hù)客體不同：發(fā)明專利，是指對產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案 。實(shí)用新型，是指對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適用于實(shí)用的新的技術(shù)方案 。
2、保護(hù)期限不同：實(shí)用新型專利的保護(hù)期限為10年，發(fā)明專利的保護(hù)期限為20年，都是從申請日起算的 。
3、創(chuàng)造性要求不同：發(fā)明專利需要具備“突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步”，而實(shí)用新型專利只需要具備“實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步”，其創(chuàng)造性水平要求比發(fā)明要低 。
【發(fā)明專利和實(shí)用專利的區(qū)別 怎么區(qū)分發(fā)明專利和實(shí)用新型】4、審批程序不同：實(shí)用新型只進(jìn)行形式審查，而對發(fā)明專利除了形式審查之外，還需要進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查，因此授權(quán)時(shí)間也更長 。
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