品牌型號：慕朗迪光刻機
系統(tǒng)：k12
光刻機是法國人Nicephore niepce（尼埃普斯）發(fā)明的，起初是Nicephore niepce發(fā)現(xiàn)了一種能夠刻在油紙上的印痕，當其出現(xiàn)在了玻璃片上后，經(jīng)過一段時間的暴曬，透光的部分就會變得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉 。
【光刻機是誰發(fā)明的 世界上第一臺光刻機是誰發(fā)明的】光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機 ， 曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備 。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上 。光刻機的主要性能指標有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等 。分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式 。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝等各方面的限制 。對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度 。曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式 。曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域 ， 光源有汞燈 ， 準分子激光器等 。
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