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【光刻機(jī)為什么中國(guó)做不出來(lái) 知乎 光刻機(jī)為什么中國(guó)做不出來(lái)】本文原創(chuàng)，請(qǐng)勿抄襲和搬運(yùn)，違者必究中國(guó)光刻機(jī)在光刻機(jī)領(lǐng)域 ， 荷蘭ASML和日本的佳能，尼康把握了全球9成以上的光刻機(jī)市場(chǎng) 。似乎沒(méi)有第四家光刻機(jī)廠商，能夠參與中高端光刻機(jī)的競(jìng)爭(zhēng) 。因?yàn)椴痪邆渖a(chǎn)中高端光刻機(jī)的實(shí)力 。
其中ASML更是唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商，就因?yàn)槟苌a(chǎn)EUV光刻機(jī)，所以ASML受到全球芯片制造廠商的追捧 ， 都希望能采購(gòu)一臺(tái)EUV光刻機(jī) 。盡管需要花費(fèi)1.2億美元才能購(gòu)買一臺(tái)EUV光刻機(jī)，但依舊是供不應(yīng)求 。
我國(guó)芯片代工廠曾經(jīng)也買了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，只不過(guò)在某些國(guó)家的阻礙下 ， 遲遲沒(méi)有交付 。
實(shí)際上中國(guó)光刻機(jī)也有自己的生產(chǎn)廠商，比如上海微電子就是國(guó)內(nèi)實(shí)力領(lǐng)先的光刻機(jī)設(shè)備廠商 。掌握28nm光刻機(jī)制造工藝 ， 還有華卓精科提供光刻機(jī)雙工件臺(tái)，助力國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)發(fā)展 。
可能很多人不知道的是，65年前中國(guó)就有光刻機(jī) 。在60年代 ， 中國(guó)第一臺(tái)65型接觸式光刻機(jī)亮相，可能技術(shù)放在現(xiàn)在來(lái)看 ， 不是最領(lǐng)先的 。但能夠在當(dāng)時(shí)生產(chǎn)出光刻機(jī)，已經(jīng)是走在世界各國(guó)前沿了 。
到了80年代，中國(guó)研發(fā)的光刻機(jī)技術(shù)甚至領(lǐng)先世界 。如果按照這種趨勢(shì) ， 我們應(yīng)該還是世界領(lǐng)先的，可為何如今不行了？
為何不行了？光刻機(jī)制程也是分為很多種的，從低到高包括了180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等工藝 。根據(jù)光刻機(jī)種類的不同，應(yīng)用領(lǐng)域也是不一樣的 。
比如ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)可專門用來(lái)生產(chǎn)5nm手機(jī)芯片處理器，佳能的高功能光刻機(jī)是面向小型基板生產(chǎn)的 。能夠做到28nm及以下的 ， 全世界都沒(méi)有幾家 。到了7nm以下，就只有ASML能生產(chǎn) 。
實(shí)際上我國(guó)主流的光刻機(jī)水準(zhǔn)是在90nm，上海微電子傳來(lái)的28nm浸潤(rùn)式光刻機(jī)，還在發(fā)貨階段，距離投入實(shí)際生產(chǎn)使用，還沒(méi)有太大的進(jìn)展 。
至少可以確定的是，和國(guó)外的ASML相比，我們還有很大的進(jìn)步空間 。那么問(wèn)題在于，為什么80年代是領(lǐng)先的，到后來(lái)卻不行了？
原因在于研發(fā)投入大，人才儲(chǔ)備不足，沒(méi)有好的生產(chǎn)制造環(huán)境 。再加上當(dāng)時(shí)國(guó)外技術(shù)大量引起國(guó)內(nèi)，所以為了方便，直接購(gòu)買國(guó)外設(shè)備成為主要思想 。
在當(dāng)時(shí)的時(shí)代背景下，有條件研發(fā)光刻機(jī)的企業(yè)機(jī)構(gòu)非常少，人才的稀有的原因都是造成發(fā)展遲緩的原因 。
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