國產光刻機正式傳來好消息根據(jù)國望光學在發(fā)出的公示，投影光刻機曝光光學系統(tǒng)將應用于28nm芯片的批量生產當中 。在這之前 ， 我國只能制造出用于90nm制程的光刻機，但隨著這兩項技術的突破，我國對于28nm光刻機制程實現(xiàn)了突破性的進展 。
28nm芯片有著比90nm芯片更加優(yōu)越的性能，用途也更加廣泛，尤其是對于新能源產業(yè) ， 如新能源汽車或者智能家居產業(yè)填補了對于28nm芯片缺失的空缺 。
此外，根據(jù)媒體消息，上海微電子也做出披露 ， 在2021到2022年將會交付出第一臺28nm工藝的國產沉浸式光刻機 。這表明我國完全能實現(xiàn)28nm芯片自由 。擁有完整的知識產權和自主產業(yè)鏈，就無畏海外市場在芯片上對我們“卡脖子”了 。
雖然28nm芯片已經能滿足大部分的生產需求 ， 但是對于華為這些手機廠商和其他一些國產芯片來說，28nm的精度還是不夠用的，接下來我國的下一步目標便是進行5nm制程光刻機的攻克 ， 手機對于芯片的精度要求要更高，所以目前我國還是不能停下研發(fā)的腳步 。
雖然目前我國還沒研發(fā)出5nm制程的光刻機，但已經可以制造出5nm制程的刻蝕機了 ， 這對于我國芯片發(fā)展也是一個鼓勵性的好消息 。
【中國光刻機最新消息 中國光刻機】成果是喜人的，但如果拿來與世界上最先進的7nm制程光刻機比的話還是遠遠不夠的，國產化光刻機的道路還要走很遠 。
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