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在新能源飛速發(fā)展和產(chǎn)品智能化的大背景下，高科技進(jìn)入蓬勃發(fā)展階段，所有高科技產(chǎn)品最不可或缺的核心部件就是芯片了。作為以智能手機(jī)為主要業(yè)務(wù)的華為，對芯片的需求量更是巨大。

大家都知道生產(chǎn)芯片最重要的器械就是光刻機(jī)，但由于受到來自漂亮國的制約，“實體清單”規(guī)則被修改后， ASML因為生產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)有一部分來自于漂亮國，受此影響，連帶著芯片代工廠也無法為華為公司提供芯片代工服務(wù) 。
華為現(xiàn)在最先進(jìn)的芯片是采用臺積電5nm工藝制作的麒麟9000芯片，但隨著“限制令”的制約，麒麟9000芯片的庫存正在一天一天減少，在無法獲得5G芯片的情況下，華為只能采用高通的4G芯片，沒有5G芯片的支持，華為的5G手機(jī)只能當(dāng)成4G來用，也因此，華為的手機(jī)業(yè)務(wù)受到了重創(chuàng) 。

事實上，不僅是華為，我國其他高科技企業(yè)現(xiàn)在都處于“缺芯”狀態(tài) 。如果要解決“缺芯”難題，首先我們就要解決光刻機(jī)的自產(chǎn)自研問題。
中科院立功了為了實現(xiàn)我國高端光刻機(jī)的國產(chǎn)化，中科院長光所、上光所聯(lián)合光電研究院在2009年，啟動了“高NA浸沒光學(xué)系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)研究”，進(jìn)行高端光刻機(jī)的攻堅。該項目于2017年在長春國科精密驗收，曝光光學(xué)系統(tǒng)研發(fā)核心的骨干人員也在同年間轉(zhuǎn)入長春國科精密繼續(xù)鉆研光刻機(jī)技術(shù)難題。

在此之后，國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所，以及上海光學(xué)精密機(jī)械研究所推動國產(chǎn)光刻機(jī)核心部件生產(chǎn) 。在2016年，國望光學(xué)研發(fā)出90nm節(jié)點的ArF投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)，之后將繼續(xù)向28nm節(jié)點ArF浸沒式光刻曝光學(xué)系統(tǒng)研發(fā)進(jìn)攻。
長春國科經(jīng)濟(jì)在2018年也傳來好消息，攻克了高NA浸沒光學(xué)系統(tǒng)的關(guān)鍵技術(shù)研究。這也是我國實現(xiàn)完全擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的高端光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)的標(biāo)志。這些成就的達(dá)成都離不開中科院的技術(shù)支持，可以說中科院立了大功了。

為什么要花費那么大的精力去研發(fā)曝光光學(xué)系統(tǒng)呢？這對光刻機(jī)的制造很重要嗎？這我們就要從光刻機(jī)的工作原理說起了。光刻機(jī)又叫掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，它的工作原理簡單地說類似于照片沖印的技術(shù) 。
光刻的過程就是在制作好的硅圓晶表面涂上一層光刻膠，然后通過紫外線或深紫外線透過掩膜版，把上面的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上，在光刻膠的覆蓋下，這些被光線照射到的部分會被腐蝕掉，而沒有被照射到的部分就會被保留下來，形成我們所需要的電路結(jié)構(gòu) 。所以曝光系統(tǒng)可以說是光刻機(jī)的核心組成之一。