【中國光刻機“”彎道超車”】
真正的SSMB-EUV光源方案 加速器周長100~150米 ， 輸出EUV功率>1KW美國的極限制裁極大的加速了中國EUV光刻機的研發(fā)速度 。中國目前采取的是一種全新的“技術路線方案”目前中國有三條光刻機研發(fā)路線 。1.國外正統(tǒng)路線 ， 也就是ASML的EUV光刻機路線 。HW+上海光機所+宇量昇 ， 國家隊 ， 走500W LPP光源+復雜鏡頭組的技術路線 ?，F(xiàn)在進度最快 ， 技術復雜度相對最高 ， 特別是超高功率、超高重復頻率二氧化碳激光器技術難度非常高 。進度保密 2.改進型路線 。廣東智能機器研究院(廣智院)+華中科技大 ， 他們在嘗試一種采用分時高功率光纖激光器射擊液態(tài)錫靶的方式繞開超高功率、超高重復頻率二氧化碳激光器的技術路線 。如果他們那個400路光纖激光器能夠成功 ， 將是使用二氧化碳激光器的LPP光源功率的數(shù)倍 。何時成功還是未知 。3.顛覆式全新路線 。清華大學主導的1千瓦級SSMB-EUV光源 ， 直接把光刻機光源變成基礎設施--同步輻射光源 。直接把光源變成類似工業(yè)園中的電力、蒸汽、純水等可購買原料 。比如：深圳產(chǎn)業(yè)光源系統(tǒng)規(guī)劃了EUV光刻線站和EUV檢測線站等合計四條光束線 ， 六個實驗站 。第三條 。顛覆性技術路線如果全面成功 ， 可以秒殺上面兩條路線 。光源外置、極大簡化的光路直接把EUV光刻機變成體積大 ， 但是成本相對較低的批量產(chǎn)品 。且更匹配中國極高的基礎設施建設能力?。?！
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