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amsl工作原理

在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段 , 將光束透射過畫著線路圖的掩模 , 經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上 , 然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖 。
【amsl工作原理】在半導(dǎo)體芯片制造設(shè)備中,投資最大、也是最為關(guān)鍵的是光刻機,光刻機同時也是精度與難度最高、技術(shù)最為密集、進步最快的一種系統(tǒng)性工程設(shè)備 。光學(xué)光刻技術(shù)與其它光刻技術(shù)相比 , 具有生產(chǎn)率高、成本低、易實現(xiàn)高的對準(zhǔn)和套刻精度、掩模制作相對簡單、工藝條件容易掌握等優(yōu)點,一直是半導(dǎo)體芯片制造產(chǎn)業(yè)中的主流光刻技術(shù) 。

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