plasma即等離子，其清洗原理為：射頻電源在一定的壓力情況下，在真空腔體中產(chǎn)生高能量的無序等離子體，然后等離子體轟擊在被清洗產(chǎn)品的表面，以達(dá)到清洗目的 。
【plasma清洗工作原理】
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì) 。等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三個大的部分組成，分別是控制單元、真空腔體以及真空泵 。
等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子，處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán) ， 離子化的原子、分子，未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài) 。
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