光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一 ， 按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；有用于封裝的光刻機(jī)；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī) ， 同時用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板 。
【光刻機(jī)是干什么用的】光刻機(jī)（MaskAligner)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī) ， 曝光系統(tǒng) ， 光刻系統(tǒng)等 。常用的光刻機(jī)是掩膜對準(zhǔn)光刻 ， 所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序 。Photolithography（光刻）意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠 ， 然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復(fù)制”到硅片上的過程 。
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