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俄羅斯宣布可以生產350納米的第一臺光刻機問世后 ， 俄工貿部緊接著稱 ， 到2026年會收到國產的130納米光刻機 。
全球首次可用的130納米光刻機是在2001年投產的 ， 也就是說俄羅斯目前與世界的差距在25年左右 ， 不過據稱俄羅斯下一代90納米光刻機也正在開發之中 。
【突破！俄羅斯下一代光刻機兩年后投產，可生產130納米芯片】來源：塔斯社
據悉 ， 目前市面上占市場大頭的是28納米以上制程的芯片 ， 占60% ， 14納米占10%左右 ， 而350納米的芯片在汽車領域來說已經完全夠用 。
俄羅斯兩年后的130納米芯片 ， 則屬于宇航級芯片 ， 譬如航天發射的火箭就要求良率達到億分之一以內 ， 且芯片更是要求安全可靠 ， 而130納米的芯片目前來說是最合適的 。
芯片不是在任何行業都是越小越好 ， 對于俄羅斯來說 ， 就算能制造出3nm的光刻機 ， 其他產業鏈跟不上 ， 也造不出3nm的手機來 ， 從無到有是一個突破 ， 現解決能用在到好用需要一個過程 ， 不知道俄羅斯能在光刻機研制這條路上走多遠 。
目前 ， 我國制造的光刻機已知的是90納米 ， 通過多重曝光可以生產55納米左右的芯片 ， 不過在主要技術積累方面 ， 已經達到了28納米左右 ， 其中中微的蝕刻設備和屹唐半導體的去膠機已經到了5納米 。
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