1970年4月24日21時中國第一顆人造衛(wèi)星"東方紅一號"發(fā)射成功，由此開創(chuàng)了中國航天史的新紀元，使中國成為繼蘇、美、法、日之后世界上第五個獨立研制并發(fā)射人造地球衛(wèi)星的國家 。中國再一次創(chuàng)造了世界奇跡 。這就是著名的“兩彈一星”，憑借著“兩彈一星”精神，我們定能夠攻破高端光刻機，而事實上，在該領(lǐng)域我們也在不斷的突破：2018年8月份，清華大學的研究團隊研發(fā)出了雙工作臺光刻機，這使得我國成為全球第二個具備開發(fā)雙工作臺光刻機的國家 。
2018年11月，由中國科學院光電技術(shù)研究所所承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收，該裝備采用365nm波長的紫外光單次成像，實現(xiàn)了22納米的分辨率，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還有可能用于制造10nm級別的芯片 。2019年4月，武漢光電國家技術(shù)研究中心甘棕松團隊采用二束激光在自主研發(fā)的光刻膠上突破了光束衍射極限，采用遠場光學的辦法，成功刻出9nm線寬的線段，實現(xiàn)了從超分辨成像到超衍射極限光刻制造的重大創(chuàng)新，這個技術(shù)突破讓我國打破了三維納米制造的國外技術(shù)壟斷 。
在一系列的創(chuàng)新下，在不斷地努力，攻堅克難后，我國攻克高端光刻機的時間，絕對不需要20年，也許10年，甚至更短的時間就可以實現(xiàn) 。問答總結(jié)在光刻機制造領(lǐng)域，雖然我國跟ASML等頂尖企業(yè)還有很大的差距，但是我們也看到目前我國的光刻機研發(fā)進步是非常明顯的，未來我國光刻機跟國際的差距會逐漸縮小，甚至會很快會達到世界先進水平 。
在“兩彈一星”精神的引領(lǐng)下，集中中華民族的偉大智慧，不斷的攻堅克難，不斷的吸收完善技術(shù) 。在光源系統(tǒng)領(lǐng)域打破美國的壟斷，在高端鏡頭領(lǐng)域與德國蔡司合作，中科院、清華、北大、華為、上海微電子、中芯國際等高校、科研機構(gòu)、科技企業(yè)的通力合作和大力支持下，我國的光刻機水平定能快速的突圍 。10年，也許更短的時間就可以攻破高端光刻機 。
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