文章圖片
近日 ， 英特爾表示 ， ASML的首批兩臺 High NA EUV光刻機已在其工廠“投入生產” ， 比早期型號更可靠 。
作為目前全球最先進的光刻機 ， High NA EUV的售價約3.5億美元（約人民幣25.4億元） ， 可以說是天價！遠高于 ASML標準EUV系列的1.8億~2億美元 。
圖源：英特爾
據悉 High NA EUV 光刻機的高度超過一間會議室 ， 長度遠超前一代設備 ， 規(guī)格特殊且極其精密 ， 預計每小時可曝光超過185片晶圓 ， 支持2nm以下邏輯芯片及相似晶體管密度的存儲芯片量產 。
一季度內生產30000片晶圓 ， 可以生產數千個計算芯片 。
在先進制程芯片制造中導入高數值孔徑EUV產品 ， 可簡化制程工序、減少光罩數量 ， 達到產能和良率提升 ， 減少制造每片晶圓的能耗 。
在初步測試中 ， ASML的新型High NA EUV設備可靠性大約是上一代的兩倍 。 新的ASML EUV設備使用光束將特征打印到芯片上 ， 也可以使用更少的曝光完成與早期設備相同的工作 ， 從而節(jié)省時間和錢 。
圖源：ASML
英特爾工廠的早期結果表明 ， High NA EUV設備只需一次曝光和“個位數”的處理步驟就可以完成早期設備需要三次曝光和大約40個處理步驟才能完成的工作 。
英特爾計劃使用High NA EUV設備來幫助開發(fā)Intel 18A（1.8nm）制造技術 ， 該技術計劃于今年晚些時候與新一代PC芯片一起量產 。
用時利用High NA EUV設備在2026至2027年間實現Intel 14A制程技術的量產 ， 并在此基礎上進一步提升制程技術 。
圖源：英特爾
【26億！天價光刻機，正式投產】英特爾花了七年時間才將這些早期設備投入全面生產 ， 由于時間過長才導致慢慢落后于臺積電 ， 目前加速High NA EUV設備進行量產 ， 也是英特爾戰(zhàn)略轉變的一部分 。
推薦閱讀
- 6000萬天價索賠！深圳賣家破產警鐘敲響
- ASML曾公開發(fā)聲：中國自研光刻機，是在破壞全球芯片產業(yè)鏈
- ASML噩夢成真：中國光刻機+中芯國際=全球芯片定價權
- 美西方議論紛紛！中國7nm光刻機技術突然申請專利！有人著急了
- 華為海思突然宣布！不等光刻機了，直接轉型屏幕芯片
- 外媒：EUV光刻機真的要來了？
- 光刻機！中科院院長正式宣布，媒體：將助中國科技騰飛！
- 荷蘭向我國出售257臺光刻機，獲利7500億！美國：恐“滅頂之災”
- 新加坡著名投資官稱：只要有一家中國公司能夠成功生產EUV光刻機
- 成功攔截！中國首臺國產光刻機交付，外媒：美國上演 “奇怪行為！