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前不久 ， Mate70系列發布的消息引發了業界的廣泛關注 ， 如華為所說 ， 該新機的所有芯片都具備國產化的能力！尤其是麒麟9020芯片 ， 據說只有7nm工藝 ， 可它的實際性能表現卻絲毫不比采用臺積電4nm工藝的高通驍龍8+遜色 。
這意味著 ， 國內已經搭建出了至少7nm工藝的芯片產業鏈 。 眾所周知 ， 近些年美方聯合日、荷等盟友頻頻加碼光刻機限制 ， 在他們看來 ， 只要“鎖死”EUV等中高端光刻機 ， 那么大陸就無法突破14nm ， 只能停留在成熟芯片領域 。
可讓美霸權主義做夢也想不到的是 ， 即便沒有中高端光刻機 ， 華為等中企通過小芯片和超線程等創新技術 ， 依然打破了封鎖 。 對此 ， 就連ASML也公開發聲 ， 稱華為和中芯國際在芯片方面進步巨大 。
不過 ， ASML又話鋒一轉 ， 稱華為和中芯國際雖然進步很大 ， 可由于缺少EUV光刻機 ， 與臺積電、三星和英特爾相比 ， 仍然存在10-15年的差距 。
個人認為 ， ASML的這番表態多少夾雜了點私心 ， 畢竟 ， 它是全球目前唯一能生產EUV光刻機的廠商 ， 如果承認繞開該設備也能制造高精尖芯片 ， 那豈不是砸了自己的“飯碗”？以后誰還會花費數十億去購買如此高昂復雜的設備 。
其實ASML很清楚 ， 單論制造技術 ， 其實中芯國際并不比任何競爭對手遜色 ， 但它為了渲染EUV光刻機的不可替代性、重申自身在領域內獨一無二的地位 ， 只能以該設備為基礎 ， 拿工藝、良率和穩定性來強調差距 。
但讓ASML猝不及防的是 ， 反轉竟來得如此之快 。 就在12月30日 ， 哈工大公布了一則關鍵信息 ， 由樊繼壯教授團隊研發的“放電等離子體極紫外光刻光源”項目 ， 榮獲了科技大賽的一等獎！
對于正處爬坡破冰階段的國內光刻機產業而言 ， 該技術的突破可謂意義重大 ， 它所提供的中心波長為13.5nm的極紫外光 ， 能夠滿足極紫外光刻市?。 ‥UV）對光源的迫切需求 ， 不僅能量轉化率高 ， 而且具備造價較低、體積較小、技術難度較低等多項優勢 。
值得一提的是 ， 除了哈工大 ， 此前長春光機所在EUV光源領域也取得了不俗的研發成果 ， 只是兩者方式不同 ， 哈工大采用的是放電等離子技術 ， 而長傳光機所則是通過激光等離子的方式 ， 完成了對EUV光源的制備 。
國內經過數年的沉淀 ， 已經扭轉了當初在EUV光刻機方面十分被動的“卡脖子”局面 。 就拿光源來說 ， 我們不僅實現了突破 ， 而且現在手握兩套可替代方案 。 更讓人感到振奮的是 ， 在EUV的其他核心技術 ， 如雙工件臺系統、物鏡、EUV多層膜等方面 ， 國內企業與科研機構也積累了大量的技術專利 。
對此 ， 不少外媒紛紛表示 ， 中國芯崛起的腳步 ， 基本已經擋不住了 ， 也許用不了幾年 ， 美西方構筑的包括EUV光刻機在內的所有壟斷 ， 將會被中國全面打破 。 很顯然 ， ASML擔心的情況還是出現了 。
【哈工大公布關鍵消息，ASML猝不及防，外媒：基本擋不住了】由于無法對大陸市場提供EUV設備 ， ASML本就白白損失了巨額利潤 ， 而一旦大陸市場擁有屬于自己的EUV ， 并且實現了量產 ， 那么該設備遲早會像曾經的盾構機一樣被打成白菜價 ， 屆時 ， 不只是美半導體供應商 ， 還有ASML等設備廠商 ， 恐怕都將迎來至暗時刻 。
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