1、光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等 。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.
【芯片為什么要用光刻機】2、因為芯片遠比這小得多，動不動就是nm的，這些最小也就是μm級別，那么到底是什么刻刀能做到這么精細 。所以就想到了，用光線在芯片上刻，就是光刻機 。
3、Photolithography（光刻）意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復制”到硅片上的過程 。形象的來說光刻機就是個“投影儀”，把我們想要的圖案投影到芯片上 。
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