按照J(rèn)B/T4127.1——1999《機(jī)械密封技術(shù)條件》標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：密封端面平面度不大于0.0009mm，其表面必須光潔 。由于材料的不同，表面粗糙度(Ra)應(yīng)小于:金屬或硬質(zhì)材料0.2μm，非金屬或軟質(zhì)材料0.4μm 。
之所以要求這樣高的平面度，是為了保證密封端面的泄漏量在允許范圍內(nèi) 。此外，減小表面粗糙度可使承載面積增加，從而增加機(jī)械密封的承載能力 。
一、刀口尺觀察法
刀口尺的刀刃是一條標(biāo)準(zhǔn)直線，將其放于工件表面觀察間隙大小及均勻性，可判斷工作表面平面度情況（見圖9-42），此法適用于工件平面度較差時(shí)，例如粗研工件的檢查 。
二、研點(diǎn)法
研點(diǎn)法是在被檢驗(yàn)工件表面上均勻涂上一層很薄的顯示劑（如紅丹粉），然后把標(biāo)準(zhǔn)平板放在被檢工件表面上，平穩(wěn)、均勻、前后左右移動(dòng)，使平板與被檢查平面對(duì)研，抬下平板，觀察被檢平面上研點(diǎn)數(shù)目多少和分布情況，研點(diǎn)數(shù)目越多、越密、越均勻，表示平面度越好 。
對(duì)于機(jī)械密封環(huán)，應(yīng)當(dāng)在摩擦副表面涂上紅丹粉后，在檢驗(yàn)板上均勻?qū)ρ?，觀察接觸情況，維修時(shí)常用動(dòng)靜環(huán)對(duì)研方法檢驗(yàn)密封環(huán)平面度 。
【平面度的計(jì)算方法 平面度怎么測(cè)量】三、光干涉法測(cè)量平面度
按相關(guān)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)要求，常用光的干涉原理精確測(cè)量機(jī)械密封環(huán)表面的平面度情況 。
光的波長或頻率在一定范圍內(nèi)能引起人們的視覺 。當(dāng)光的振幅小時(shí)，光的強(qiáng)度(亮或暗的程度)變小，二者成正比關(guān)系 。當(dāng)光線從同一點(diǎn)發(fā)出，并重合于空間之某一點(diǎn)，振幅發(fā)生變化而產(chǎn)生疊加現(xiàn)象 。如圖9-43所示 。
圖中a、b沿同方向進(jìn)行傳播，且由同一光源發(fā)出，周相相同，疊加后如c所示，振幅加大，故光強(qiáng)度較原來為大，看到的是亮光區(qū)域 。
圖中a' 、 b’沿同方向傳播，但其周相差180°，疊加后如c'所示，振幅互相抵消，故光強(qiáng)度變?yōu)榱悖吹降氖前倒鈪^(qū)域 。
當(dāng)把同一點(diǎn)光發(fā)出的光波，分成兩束很細(xì)的光波，就會(huì)出現(xiàn)光的干涉現(xiàn)象——亮光區(qū)域與暗光區(qū)域相互交錯(cuò) 。
以下介紹用光學(xué)平晶檢測(cè)平面度的基本原理 。
平面平晶是用派利克斯玻璃、熔凝水晶或折光系數(shù)為1. 516的光學(xué)玻璃制造，使之成為具有平直工作端面的透明玻璃，按直徑大小有60mm、80mm、100mm、150mm、200mm、250mm、300mm、500mm等 。它的精度為1級(jí)和2級(jí)兩種;工作面的平面性很高，其偏差不超過0.03μm和0.1μm 。通常采用1級(jí)平晶測(cè)量密封環(huán)端面的平面度，平晶的直徑應(yīng)大于被測(cè)工件的外徑 。
來自太陽的自然光實(shí)際上是由幾種顏色組成，每一種代表一個(gè)不同波長的電磁波 。當(dāng)自然光通過平晶射向被檢表面發(fā)生光波干涉后，不同位置上會(huì)顯示出幾種顏色的干涉條紋(彩虹) 。用單色光源時(shí)產(chǎn)生的是明暗相間的亮帶和暗帶，非常清晰，可以看清干涉帶，讀數(shù)較準(zhǔn)確 。單色光源一般為納光燈 。
光波干涉檢測(cè)法的原理：干涉條紋的形成，是由發(fā)自同一光源的兩組光束經(jīng)過不同的光程以后，又重新會(huì)聚而發(fā)生亮度增強(qiáng)和減弱的結(jié)果，這種光束亮度的加強(qiáng)和減弱就是光波的干涉 。
分析可知:
當(dāng)兩束光線的光程差δ是波長λ的整數(shù)倍時(shí)，干涉疊加后光強(qiáng)度增加，呈現(xiàn)亮光區(qū) 。
當(dāng)兩束光線的光程差是半波長的奇數(shù)倍時(shí)，干涉疊加后光強(qiáng)度變?yōu)榱?，呈現(xiàn)暗光區(qū) 。從波動(dòng)學(xué)角度理論上可總結(jié)為
δ＝κλ……亮光區(qū)
?＝（2κ+1）λ/2……暗光區(qū)
利用光學(xué)平晶，放在被檢的工件表面上，就會(huì)觀察到光的干涉現(xiàn)象（圖9-44） 。
當(dāng)光線從A點(diǎn)發(fā)出，射人平晶B點(diǎn)，一部分光線在平晶下平面C點(diǎn)依CF方向反射;另一部分光線透過空氣層，射至工件表面D點(diǎn)再反射，這兩部分光線通過平晶中反射后，由于光程不同而發(fā)生干涉，其光程差為Δ為
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