光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備 。它采用類似照片沖印的技術(shù) ， 把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上 。光刻機(jī)的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光 。
光刻機(jī)的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上 。然后使用化學(xué)方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖 。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序 。光刻機(jī)的制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基?。?因此，世界上只有少數(shù)廠家掌握 。
【光刻機(jī)是干什么用的 光刻機(jī)是誰發(fā)明的】
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