日产乱码一二三区别免费麻豆,久久久亚洲熟妇熟女在线视频

準確抓住了技術(shù)轉(zhuǎn)折點
目前世界最頂尖的光刻機有三個廠家，分別是ASML，尼康和佳能。2007年之前這三大廠家其實并沒有太大的差距，競爭的轉(zhuǎn)折點是出現(xiàn)在2007年。2007年ASML配合臺積電的技術(shù)方向，推出了193納米的光源浸沒式系統(tǒng)，在光學(xué)鏡頭和硅晶圓片導(dǎo)入液體作為介質(zhì)，在原有光源與鏡頭的條件下，能顯著提升蝕刻精度，并成為高端科技的主流技術(shù)方案。而當時日本的尼康與佳能卻主推157納米光源的干式光刻，這個路線后來被市場所放棄，也成為尼康跟佳能邁入衰退的一個轉(zhuǎn)折點，后來才有了ASML的壟斷。

技術(shù)分工與合作
雖然ASML的研發(fā)人員占員工總數(shù)的比例達到4成左右，但是ASML很多技術(shù)都是外包，這樣可以讓ASML專注于核心技術(shù)與客戶需求，大大提高研發(fā)的效率。
對細分技術(shù)領(lǐng)域企業(yè)的控制
生產(chǎn)光刻機對技術(shù)的綜合要求非常高，這里面涉及很多技術(shù)領(lǐng)域，為了獲得全球最頂尖的技術(shù)，ASML先后投資了很多企業(yè) 。比如2007年收購了美國的Bion，強化了專業(yè)光刻檢測與解決方案能力；2013年完成對紫外光源龍頭 Cymene的收購，2016年獲得光學(xué)鏡片龍頭德國蔡司24.9％的股份，這兩項投資進一步加強了ASML在極紫外光領(lǐng)域的領(lǐng)先優(yōu)勢。
PS：
EUV（極紫外光源）光刻機，是生產(chǎn)7nm制程芯片必不可少的設(shè)備，我們熟知的華為麒麟芯片、高通驍龍芯片，三星Exynos芯片的制造都離不開該設(shè)備。可以說沒有EUV光刻機就生產(chǎn)不出頂級的處理器，如果臺積電不給華為代工，華為就得退出中高端手機市?。?
目前僅有由荷蘭飛利浦公司發(fā)展而來的ASML（阿斯麥）一家可提供可供量產(chǎn)用的EUV光刻機，在全球市場處于絕對壟斷地位。因此ASML對于EUV光刻機的供貨重要性不言而喻，同時一臺光刻機的價值不菲，超過一億美元！

EUV光刻機制造難度極高，基本代表著人類科學(xué)技術(shù)，工業(yè)制造各領(lǐng)域最高成果。需要多個國家、多個領(lǐng)域頂級公司通力合作，才能制造出來，基本代表著人類科學(xué)技術(shù)的頂峰！EUV光刻機在研發(fā)初期耗費了大量的資源，三星、臺積電、英特爾共同向ASML注資52.59億歐元，用于支持EUV光刻機的研發(fā) 。隨后ASML收購了全球領(lǐng)先的準分子激光器供應(yīng)商Cymer，并以10億歐元現(xiàn)金入股德國著名光學(xué)系統(tǒng)生產(chǎn)商卡爾蔡司，加速EUV光源和光學(xué)系統(tǒng)的研發(fā)進程，這兩次并購也是EUV光刻機能研發(fā)成功的重要原因。EUV光學(xué)透鏡、反射鏡系統(tǒng)需要極高的精度。舉例來說，一臺EUV機臺得經(jīng)過十幾面反射鏡，將光從光源一路導(dǎo)到晶圓，最后大概只剩下不到2%的光線。反射鏡的制造難度非常大，精度以皮米計（萬億分之一米）。ASML的總裁曾說過，如果反射鏡面積有德國那么大，最高的凸起不能超過1公分。

光刻機光刻過程必須在真空中實現(xiàn) ，原因是極紫外光很嬌貴，在空氣中容易損耗。同時，在光刻過程中，設(shè)備的動作時間誤差以皮秒計。（備注：皮秒=兆分之一秒）EUV除了售價高昂，技術(shù)復(fù)雜之外，耗電能力也十分恐怖。驅(qū)動一臺能輸出 250 瓦功率的 EUV的機臺，需要輸入0.125萬千瓦的電力才能達到，換句話來說，就是一臺輸出功率250W的EUV機器工作一天，將會消耗3萬度電，這個數(shù)字確實嚇人。由于極紫外光的固有特性，產(chǎn)生極紫外光的方式十分低效，世界第二大內(nèi)存制造商、韓國的 SK 海力士代表曾表示， “EUV 的能源轉(zhuǎn)換效率（wall plug efficiency）只有 0.02% 左右。”