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中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)是“偷”來的!ASML徹底傻眼,外媒:恐有滅頂之災(zāi)!

中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)是“偷”來的!ASML徹底傻眼,外媒:恐有滅頂之災(zāi)

中光刻機(jī)技術(shù)一直以來都是高科技領(lǐng)域中備受矚目的關(guān)鍵技術(shù)之一 。然而,最近有關(guān)荷蘭ASML可能“偷”取中光刻機(jī)技術(shù)的報(bào)道引起了廣泛關(guān)注 。外媒紛紛揣測(cè),如果這一指控屬實(shí),ASML可能面臨著滅頂之災(zāi) 。那么,中光刻機(jī)技術(shù)到底是不是“偷”來的呢?下面將從技術(shù)背景、ASML的發(fā)展歷程以及專利保護(hù)等方面進(jìn)行分析 。


中光刻機(jī)(英文名稱DeepUltravioletLithography)是一種集光學(xué)、機(jī)械、電子等多學(xué)科技術(shù)于一體的高精密加工工藝 。它利用紫外線輻射對(duì)硅片上的光刻膠進(jìn)行曝光,從而在硅片上形成微細(xì)的圖案 。這種技術(shù)廣泛應(yīng)用于集成電路制造、液晶顯示屏制造等領(lǐng)域,是半導(dǎo)體工業(yè)不可或缺的關(guān)鍵環(huán)節(jié) 。


隨著時(shí)代的變遷,全球科技都在飛速發(fā)展,如今國(guó)家與國(guó)家的競(jìng)爭(zhēng)也逐漸演變成科技與技術(shù)的較量,誰掌握了核心技術(shù),誰就有絕對(duì)的話語權(quán)!特別是半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域,小到手機(jī)、電腦、汽車、智能家電大到軍事裝備都離不開芯片的支持 。

因此,能夠自主研發(fā)并量產(chǎn)的芯片,便成了各個(gè)國(guó)家科技發(fā)展的“命脈” 。而美國(guó)為了遏制中國(guó)科技的發(fā)展,便聯(lián)合日本、荷蘭組成“芯片聯(lián)盟”對(duì)華封鎖,企圖將中國(guó)高端芯片扼殺在搖籃中 。

荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML擁有世界上最頂尖的 EUV光刻工藝,按理說在整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)有著絕對(duì)的話語權(quán),然而近些年,ASML對(duì)待中國(guó)的態(tài)度卻是大起大落,十分耐人尋味 。

2020年中國(guó)技術(shù)人員前往荷蘭 ASML公司學(xué)習(xí)考察時(shí),對(duì)方工程師十分不屑地表示:“就是把完整圖紙給中國(guó),你們也造不出光刻機(jī)”

然而,到了2022年ASML又突然改口:荷蘭的物理學(xué)原理,同樣適用于中國(guó),而且中國(guó)的綜合實(shí)力是荷蘭的十七倍,如果中國(guó)舉全國(guó)之力研制光刻機(jī),或許能夠成功 。

到了今年2月份,ASML公布了2022年年度報(bào)告,報(bào)告中稱,一位前中國(guó)員工竊取了ASML的重要機(jī)密,觸犯了美國(guó)禁令,ASML正在著手調(diào)查,很明顯,ASML已經(jīng)被中國(guó)的光刻機(jī)發(fā)展速度給逼急眼了!

2023年3月,ASML公司 CEO溫寧克訪問中國(guó)時(shí),氣急敗壞地表示:中國(guó)自主研發(fā)光刻機(jī),是在破壞全球產(chǎn)業(yè)鏈!到了2023年4月下旬溫寧克又表示:ASML不能失去中國(guó)市場(chǎng),即使有美國(guó)禁令,荷蘭也要不顧一切將光刻機(jī)賣給中國(guó)!

曾經(jīng)的我你愛搭不理,如今你卻高攀不起!ASML態(tài)度之所以會(huì)改變?nèi)绱酥?,主要的原因是中?guó)自研光刻機(jī)技術(shù)進(jìn)步一日千里,已經(jīng)超出了所有人的預(yù)料,所以ASML才急了!

EUV光刻機(jī)有三大關(guān)鍵技術(shù),一是頂級(jí)光源系統(tǒng),二是高精度的物鏡系統(tǒng),三是工作臺(tái) 。在加工平臺(tái)領(lǐng)域,我國(guó)華卓精科自主研發(fā)的雙工作臺(tái)突破了 ASML的技術(shù)封鎖,一舉躍居世界第二,躋身為世界上最頂尖的雙工作臺(tái)核心技術(shù)企業(yè)!

而國(guó)防七子之一的哈爾濱工業(yè)大學(xué),在光刻機(jī)領(lǐng)域的進(jìn)步更是突飛猛進(jìn)!今年初哈工大公布了自主研發(fā)的超高精度激光干涉儀,并一舉摘得國(guó)際光子大會(huì)“金燧獎(jiǎng)” 。四月份哈爾濱工業(yè)大學(xué)又發(fā)布重磅消息,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)“電能轉(zhuǎn)化等離子體線路,這也就意味著DPP-EUV光源研制成功了 。也就是說哈工大徹底突破光刻機(jī)核心技術(shù)之一的光源系統(tǒng),這是非西方國(guó)家首次攻破這一核心工藝,哈工大學(xué)連續(xù)取得重大進(jìn)展,讓中國(guó)自研光刻機(jī)工藝直指7 nm制程!

日本和荷蘭都擁有最重要的光刻技術(shù),而美日荷三國(guó)達(dá)成的“三方協(xié)議”,就是為了將中國(guó)芯片牢牢卡在14納米制程以上 。只要中國(guó)無法實(shí)現(xiàn)高端芯片的自給自足,就等于卡住了華為脖子,中國(guó)在人工智能、大數(shù)據(jù)、云計(jì)算等前沿技術(shù)上的優(yōu)勢(shì)也會(huì)被徹底扼殺,這樣美國(guó)的科技霸權(quán)才會(huì)更加固若金湯!

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