刻蝕機和光刻機的區(qū)別主要在：
1、工藝不同：刻蝕機是將硅片上多余的部分腐蝕掉，光刻機是將圖形刻到硅片上；
2、難度不同：光刻機的難度和精度大于刻蝕機 。
【刻蝕機和光刻機的區(qū)別 刻蝕機和光刻機的區(qū)別是什么】
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