
眾所周知,當芯片工藝進入7nm后,就需要用到一種光刻機,叫做EUV光刻機(極紫外線光刻機),采用的是13.5nm的紫外線光源 。
【荷蘭光刻機多少錢一臺 光刻機多少錢一臺】而DUV光刻機,主要采用的是193nm的光源,理論上可以經多重曝光后用到7nm,但實際沒有廠商這么干,因為多重曝光良率大幅度降低,成本非常高,且不可控 。
而EUV光刻機,只有ASML一家廠商能生產,所以任何芯片廠商,想要生產7nm及以下的芯片,就得找ASML買光刻機 。
而ASML在2015年推出第一代EUV光刻機WINSCAN NXE:3400B之后,就一直是各大想生產7nm及以下芯片廠商爭搶的對象 。特別是臺積電、三星、intel這三大廠商,誰能最先、最快、最多買到EUV光刻機,誰就有了優勢和底氣 。
之前中芯國際在2018年也找ASML訂購了一臺EUV光刻機,不過4年過去了,依然沒拿到貨,因為美國不允許ASML賣EUV光刻機給我們 。
而在這4年之中,ASML的EUV光刻機也升級了2代,2019年從NXE:3400B升級到NXE:3400C,再2021年升級為NXE:3600D,這三代光刻機的數值孔徑為0.33,提升的更多是處理速度上面 。
而現在ASML再次推出新一代EUV光刻機,這次將數值孔徑提升到了0.55,而型號有兩種,分別是EXE:5000和EXE:5200,相比于上一代EUV光刻機,可以將芯片縮小1.7倍、同時密度增加2.9倍,全面支持2nm及以下芯片,乃至埃米級工藝節點 。
按照ASML的說法,目前intel已經簽訂了一筆EXE:5200的訂單,而EXE:5200系統的成本將顯著超過3.4億美元(約22億人民幣) 。
intel為何搶先下訂單,當然是想在2nm芯片的爭霸賽中占到先機,更希望能夠比臺積電、三星更領先,畢竟英特爾一直表示要重新提振美國的芯片制造業 。
這22億元的價格,估計也就只有intel、三星、臺積電買得起了吧,其它的代工廠,估計都難得買得起了,真的是太貴了 。
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