中國“量子芯”大突破！造出3nm芯片刻蝕機 ， 中微到底有多強？
【中信證券過59.5單,中微】
我國企業(yè)中微成功研制出3nm的刻蝕機 ， 且相關(guān)技術(shù)已經(jīng)進入了可以量產(chǎn)應(yīng)用的階段 ， 中國芯片有了重大突破 ， 但這也更深刻地揭示出中國面臨的、不公正的光刻機之痛 。與名聲在外的光刻機相比 ， 刻蝕機的名字確實相對低調(diào) ， 但這并不意味著刻蝕機不重要 ， 只是因為中國已經(jīng)擁有了先進的刻蝕機技術(shù)而已 ?？陀^來說 ， 刻蝕機是與光刻機相提并論的重要芯片加工機器 ， 兩者的地位等同 ， 在納米芯片大規(guī)模生產(chǎn)的規(guī)程中缺一不可 。
中微在刻蝕機領(lǐng)域的不斷研發(fā)、不斷開創(chuàng) ， 成功研發(fā)3nm刻蝕機確實是一件令人驚喜的好消息 ， 真是振奮人心、振奮士氣 。同樣具有極高技術(shù)水平的刻蝕機設(shè)備先來簡要地介紹一下刻蝕機 。芯片加工大致可以分為兩個粗略的環(huán)節(jié) ， 一是把芯片工作所需要的芯片架構(gòu)刻上去 ， 二是要把可能會干擾芯片工作的無用內(nèi)容消除掉 。完成第一個工作的設(shè)備就是大名鼎鼎的光刻機 ， 目前世界上最頂尖的光刻機企業(yè)來自荷蘭 ， 而該企業(yè)的科技其實是雜交而來的（即融合了多個國家的多個技術(shù)）；完成第二個工作的設(shè)備就是今天提到的刻蝕機 ， 中國企業(yè)在刻蝕機領(lǐng)域一直處于頂尖水平 ， 曾多次突破美國的技術(shù)封鎖 ， 如今更是再創(chuàng)新高 。
中國刻蝕機成功追超世界頂尖水平 ， 而光刻機依舊被美國卡住了脖子 ， 這種悲劇更深刻地揭示出中國面臨的、不公正的、光刻機之痛 。什么樣的痛苦？那就是在某些時刻、在某些領(lǐng)域 ， 中國必須依靠自己的力量、依靠14億人的拼搏 ， 追逐、趕上其他60億人的工作 。為什么這么說？這就要從刻蝕機與光刻機的異同說起 。很多人都以為刻蝕機的技術(shù)要比光刻機簡單 ， 但其實并不是這么一回事：光刻機和刻蝕機在技術(shù)難度上處于同一水平 ， 只是在技術(shù)種類的多與少上有很大的差異 ， 光刻機所需的技術(shù)種類要比刻蝕機更多 。
光刻機需要什么？它需要工作臺、光矯正器、形狀設(shè)計裝置、能量控制裝置、能量探測裝置 ， nm級的掩膜設(shè)備 ， 高精尖的復雜物鏡等多個頂尖的技術(shù)設(shè)備 ， 涉及到的頂級技術(shù)非常多 ， 目前沒有任何一個國家可以單獨拿出所有的技術(shù) 。注意 ， 不只是中國 ， 沒有國家在以上所有的光刻機技術(shù)領(lǐng)域都處于頂級水平 ， 大家都只是擁有其中的一部分 ， 最后通過不同企業(yè)的合作來生產(chǎn)頂級光刻機 。
相比之下 ， 刻蝕機主要依靠基于感應(yīng)耦合的等離子體刻蝕技術(shù) ， 主要的技術(shù)是高精尖的控制系統(tǒng)、各種射頻單元、頂級的光譜測量技術(shù)、阻抗監(jiān)控以及探測技術(shù)、壓力控制以及質(zhì)量控制器 ， 它所需的頂級技術(shù)在數(shù)量上相對較少 。因此 ， 中國在經(jīng)過努力之后 ， 成功追趕上了世界頂級的水平 ?？涛g機和光刻機的對比清楚地告訴我們：不是中國人不努力 ， 不是中國人不聰明 ， 而是中國人需要做的事情太多了 。
中國中微造出3nm刻蝕機 ， 與荷蘭ASML光刻機還有多大差距？
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