快科技7月17日消息 ， 光刻機龍頭ASML現在宣布 ， 全球首臺最強光刻機第二代High NA EUV已經出貨 。
按照官方的說法 ， EXE:5200是ASML對現有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改進版本 ， 首臺買家是英特爾 ， 一臺售價近30億元 。
相比初代High NA EUV光刻機EXE:5000來說 ， EXE:5200擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000為每小時185片以上） ， 可以更好的為2nm工藝量產做支撐 。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數值孔徑 ， 比前代EUV光刻機0.33數值孔徑透鏡的精度提高了 ， 可以為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式 。
EUV 0.55 NA的設計旨在從2025年開始實現多個未來節點 ， 這是業內首次部署 ， 隨后將采用類似密度的內存技術 。
【30億元/臺！全球首臺頂級光刻機出貨 支持后2nm工藝：中國廠商不可能買到】需要注意的是 ， 這種高精尖的光刻機 ， ASML是不可能賣給中國廠商的 ， 這不是錢的問題 ， 而是其他因素 。
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