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光刻機(jī)是干什么用的,也造不出光刻機(jī)

能不能用X射線做光刻機(jī)?
【光刻機(jī)是干什么用的,也造不出光刻機(jī)】

光刻機(jī)是干什么用的,也造不出光刻機(jī)


能不能用X射線做光刻機(jī) , 答案是肯定可以的 , 比如比較目前晶圓行業(yè)主流的極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)實(shí)質(zhì)上就是軟X射線光刻技術(shù) , 首先解釋一下什么是軟X射線 。X射線也就是我們常說(shuō)的倫琴射線 , 它是波長(zhǎng)介于紫外線與γ射線 之間的一種電磁輻射波 , 通常波長(zhǎng)約在0.01~100A之間 , 而波長(zhǎng)在10~100A之間的稱為軟X射線 。
傳統(tǒng)的基于光學(xué)系統(tǒng)的成像式光刻機(jī)在工藝上關(guān)鍵線寬上受到系統(tǒng)的解像力(也就是系統(tǒng)的成像分辨率)限制 , 已經(jīng)成為了集成電路諸如晶圓行業(yè)設(shè)計(jì)上的一大難題 。之前比較常見的32以及45nm工藝由于光源波長(zhǎng)的限制 , 必須采用浸潤(rùn)式系統(tǒng)進(jìn)行 , 比如193nm液體浸潤(rùn)式系統(tǒng) 。因此在晶圓不斷集成化極致化的背景下衍生了具有更高分辨率的EUV光刻機(jī) 。

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