1、光刻機(jī)制作芯片的過程，基本和“沖印照片”一樣 。假設(shè)拍的是風(fēng)景，膠片上會(huì)有曝光痕跡，先要在暗室里顯影，讓風(fēng)景在膠片上顯示出來 。然后在紅光下通過放大機(jī)，把膠片上的風(fēng)景投射到相紙上，讓相紙曝光 。再通過相紙的顯影、定影、烘干得到最終的照片 。除了風(fēng)景之外，“照片沖印”需要有膠片，有光源、放大機(jī)、相紙 。
2、對(duì)光刻機(jī)來說，所謂“風(fēng)景”就是設(shè)計(jì)好的集成電路圖（IC），“膠片”就是一塊石英板（光罩），用來記錄集成電路圖，“相紙”就是硅晶圓，“放大機(jī)”就相當(dāng)于光刻機(jī) 。
【光刻機(jī)原理 進(jìn)來看看】3、所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機(jī)是縮小，把電路圖縮小到晶圓上 。
4、在光刻機(jī)領(lǐng)域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能） 。但高端光刻機(jī)市?。衫糀SML是無可爭(zhēng)議的世界霸主，把第二名都甩得很遠(yuǎn)，因?yàn)榧夹g(shù)難度太高、需要的投資太大 ， 尼康、佳能已經(jīng)放棄EUV光刻機(jī)的研發(fā) 。
