當(dāng)前，其他制造商使用的大多數(shù)藍(lán)牙芯片工藝都集中在28納米到12納米之間 。隨著市場需求驅(qū)動(dòng)的藍(lán)牙芯片制造工藝的發(fā)展，未來，為了在更小的芯片中集成更多的功能和應(yīng)用，各廠商將逐步推動(dòng)藍(lán)牙芯片向7納米甚至5納米的制造工藝發(fā)展 。中芯國際也很清楚這一趨勢，所以也向先進(jìn)制程工藝靠攏，并在2018年訂購了EUV光刻機(jī)，為更低的制程工藝做準(zhǔn)備 。
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