掩模版光刻機(jī)的工作是將掩模版上的電路圖從光刻膠轉(zhuǎn)移到顯影，然后進(jìn)行刻蝕，轉(zhuǎn)移到硅片上 。現(xiàn)在生產(chǎn)高檔芯片用的掩膜都很貴 。一個(gè)EUV面具的價(jià)格約為500萬美元，是DUV面具的8倍 。隨著EUV光刻技術(shù)的大規(guī)模生產(chǎn)，相應(yīng)掩模的價(jià)格也在降低，但最低價(jià)格約為200萬美元/片 。由于高檔芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜，多采用多層布線結(jié)構(gòu)，每層需要2到4個(gè)掩膜版，所以一套芯片大概需要10個(gè)以上的掩膜版 。
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