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鍵盤|單價超3億美元！Intel拿下首批二代High-NA光刻機，2nm將搶先量產

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鍵盤|單價超3億美元！Intel拿下首批二代High-NA光刻機，2nm將搶先量產

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鍵盤|單價超3億美元！Intel拿下首批二代High-NA光刻機，2nm將搶先量產

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"multi_version":false1月19日 ， 全球光刻機巨頭ASML公布了最新的財報 ， 其2021年第4季度及2021全年業績均創歷年新高且優于預期 。 ASML還宣布其2022年一季度 ， 其第二代高數值孔徑（High-NA）光刻機TWINSCAN EXE:5200獲得了首個訂單 ， 這也意味著這款可以被用于2nm芯片制造光刻機的有望在2024年交付 。
2021年營收186億歐元 ， 毛利率高達52.7%

根據財報顯示 ， ASML 2021年第4季營收為49.86億歐元 ， 凈利潤為17.74億歐元 ， 毛利率達54.2% 。 新增訂單金額為70.50億歐元 。 2021年全年營收達186.11億歐元（同比增長35%） ， 凈利潤為58.83億歐元 ， 毛利率為52.7% 。 2021年全年新增訂單為262.40億歐元 ， 其中一半來自于EUV光刻機 。

ASML總裁兼CEO溫彼得 (Peter Wennink) 表示 ， ASML第4季的營收達到50億歐元 ， 符合財測；由于強勁的升級與服務收入 ， 2021年的毛利率達到54.2% ， 優于財測 。
2021年出貨了42臺EUV光刻系統
2021年ASML來自光刻系統方面的營收為136.53億歐元 ， 總共銷售了287臺光刻系統 。 具體的銷量方面 ， EUV光刻系統42臺 ， 貢獻了約63億歐元 ， 銷售額占比高達46%；ArFi光刻系統81臺 ， 銷售額占比36%；ArF光刻系統131臺 ， 銷售額占比10%；i-Line光刻系統33臺 ， 銷售額占比1% 。

從銷售的光刻系統的最終用途來看 ， 70%被用于邏輯半導體制程 ， 30%被用于存儲芯片的制造 。
從光刻系統最終出貨地來看 ， 中國臺灣地區貢獻的銷售額占比高達44% ， 韓國占比35% ， 中國大陸占比16% 。
溫彼得表示：“2021年ASML的EUV出貨量增長并不高 ， 這主要是由于我們在第三季度宣布的物流中心和供應鏈問題影響的結果 。 但這完全由EUV光刻機的安裝及升級等基礎收入補償了 ， 特別是我們能夠向客戶提供的生產力升級 。 我們的客戶急需額外的容量 ， 需求量很大 。 這部分的銷售額為15億歐元 。 在我們稱之為生產力提升包的推動下 ， 安裝了大量選項 ， 為客戶提供了額外的晶圓容量 。 ”

DUV 業務方面 ， ASML表示 ， XT:860N 已于 2021 年底交付給其第一個客戶 。 這種 KrF 系統提供了更好的性能和更低的成本 。 2022年 ， 隨著 NXT:870 的引入 ， ASML將把 KrF 添加到 NXT 平臺中 ， 使其能夠在生產率和擁有成本方面邁出重要的一步 ， 并在 ArFi 和 ArFDry 中構建這個平臺上的現有經驗 。
應用業務方面 ， 首款 eScan1100 多束檢測系統計劃在未來幾周內交付 ， 該系統是專為大批量生產設計的 。 由于采用了 25 束（5x5） ， 預計 eScan1100 與單一電子束檢測工具相比 ， 可增加 15 倍的吞吐量 ， 用于目標在線缺陷檢測應用 。
單價超3億美元 ， TWINSCAN EXE:5200已接獲首個訂單
由于EUV光刻系統中使用的極紫外光波長（13nm）相比DUV 浸入式光刻系統（193 nm）有著顯著降低 ， 多圖案 DUV 步驟可以用單次曝光 EUV 步驟代替 。 可以幫助芯片制造商繼續向7nm及以下更先進制程工藝推進的同時 ， 進一步提升效率和降低曝光成本 。
自2017年ASML的第一臺量產的EUV光刻機正式推出以來 ， 三星的7nm/5nm工藝 ， 臺積電的第二代7nm工藝和5nm工藝的量產都是依賴于0.55 數值孔徑的EUV光刻機來進行生產 。
目前 ， 臺積電、三星、英特爾等頭部的晶圓制造廠商也正在大力投資更先進的3nm、2nm技術 ， 以滿足高性能計算等先進芯片需求 。 而3/2nm工藝的實現則需要依賴于ASML新一代的高數值孔徑 (High-NA) EUV光刻機EXE:5000系列 。

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